Mönsterdesign - grunderna i att skapa rapporterade mönster
Högskolan i Borås · Design
- 7,5 hp
- Distans
- Deltid 25 %
- Blandad tid
Vad krävdes för att komma in?
HT 2026 krävdes minst 20,75 i BI, 20,83 i BII, 1,00 på högskoleprovet i urval 2.
HT 2026 urval 2
VT 2026 urval 2
BI och BII är gymnasiebetyg utan och med komplettering (högst 22,50). HP är högskoleprovet (högst 2,00). Ändringen jämför med samma termin året innan. Ordlista
Konkurrensen om platserna
HT 2026
11,2 sökande per antagen. Många söker flera kurser samtidigt, så alla tar inte en plats.
Antagningspoäng och söktryck över tid
Betygsgränser
- BI
- BII
- BI
- BII
Högskoleprovet
Sökande
Visa siffrorna som tabell
| Termin | BI | BII | HP | Sökande | I första hand | Antagna |
|---|---|---|---|---|---|---|
| HT 2026 | 20,75 | 20,83 | 1,00 | 560 | 178 | 50 |
| VT 2026 | 21,30 | 21,51 | 1,00 | 522 | 174 | 50 |
| HT 2025 | 21,50 | 21,66 | 0,90 | 493 | 165 | 50 |
| VT 2025 | 20,54 | 21,66 | 1,05 | 380 | 129 | 50 |
| HT 2024 | 21,53 | 21,90 | 0,85 | 508 | 161 | 50 |
| VT 2024 | 21,00 | 21,21 | 1,10 | 384 | 130 | 50 |
Om kursen
I kursen kommer du att lära dig grunderna i att skapa rapporterade mönster för hand och digitalt, både teoretiskt och genom eget praktiskt arbete. Mönster finns överallt och har du väl börjat tänka på det är det svårt att sluta. Det kan vara allt från molnen på himlen till en tegelvägg. Skillnaden mellan ett mönster och ett rapporterat mönster är att det sistnämnda upprepar sig, både i höjd och sidled. Vilket innebär att det går att upprepa i den storlek du vill. Ett rapporterat mönster används inom många olika produktområden såsom textil, tapet, papper, förpackningar med mera.
Under vår kurs Mönsterdesign-grunderna i att rapportera mönster kommer du att fördjupa dig i en omfattande läroplan som täcker många aspekter av mönsterskapande. Här är en översikt över ämnesområdena och färdigheterna som du kommer att utforska:
Grundläggande mönsterrapporteringstekniker: Kursen inleds med en djupdykning i de grundläggande teknikerna för mönsterrapportering. Du kommer att lära dig hur man skapar mönster som kan upprepa sig både i höjd och sidled, vilket är kärnan i rapporterade mönster.
Grundläggande skisstekniker: Skissande är en avgörande del av mönsterskapande. Du kommer att utveckla dina skissfärdigheter och lära dig att få dina idéer från huvudet till papperet.
Inspiration, mönsteruttryck och ideutveckling: För att bli en framstående mönsterdesigner behöver du hitta inspiration överallt omkring dig. Vi kommer att utforska olika källor till inspiration och hjälpa dig att utveckla din egen unika röst och stil i ditt mönsterskapande.
Praktiska metoder att skapa mönster för hand: Vi kommer att ge dig möjlighet att öva och förbättra dina färdigheter genom praktiskt arbete. Du kommer att skapa mönster för hand och lära dig att använda olika tekniker och material för att uppnå önskade resultat.
Digitala verktyg för bearbetning av mönster: I den digitala tidsåldern är det viktigt att vara bekant med de verktyg som möjliggör digitalt mönsterskapande. Du kommer att få praktisk erfarenhet av att använda ett bildbehandlingsprogram för att skapa och redigera mönster på skärmen.
Grundläggande färgövningar med koppling till rapporterade mönster: Färg är en avgörande del av mönsterskapandet. Vi kommer att utforska grundläggande färgteorier genom övningar som hjälper dig att förstå hur färger kan påverka dina mönster och deras visuella uppfattning.
Mönster och färgställning: Slutligen kommer vi att undersöka hur mönster och färg samverkar för att skapa visuellt slående resultat. Du kommer att lära dig att balansera mönster och färger för att skapa harmoniska och estetiskt tilltalande designs.
Denna kurs är en omfattande resa in i en värld av mönster och ger dig de färdigheter och verktyg som behövs för att bli en fena på att skapa mönster, oavsett om du vill arbeta inom textil, tapet, papper eller andra kreativa områden. Låt oss tillsammans utforska skapandets magi och låta din kreativitet blomstra inom mönsterdesign!
Kursen ges på distans och bygger på självstudier.
Behörighet: Grundläggande behörighet
Beskrivning från Susa-navet (Skolverket). Kontrollera alltid aktuella krav hos lärosätet. Kursens sida hos Högskolan i Borås
Alla urvalsgrupper HT 2026
| Grupp | Betydelse | Gräns | Antagna | Reserver |
|---|---|---|---|---|
| BI | Gymnasiebetyg utan komplettering | 20,75 | 17 | 257 |
| BII | Gymnasiebetyg med komplettering | 20,83 | 3 | 73 |
| HP | Högskoleprovet | 1,00 | 20 | 31 |
| BF | Betyg från folkhögskola | – | 0 | 7 |
| SA | Sen anmälan | – | 0 | 8 |
| ÖS | Övriga sökande | – | 0 | 20 |
| ALE | Särskild urvalsgrupp | 60 | 10 | 11 |
* betyder att alla behöriga i gruppen antogs och – att ingen antogs. Vid sen anmälan (SA) beror värdet på när anmälan kom in. Övriga koder kan variera mellan terminer och lärosäten, så fråga lärosätet vad de betyder.
Fler kurser i design vid Högskolan i Borås
- Portfolio och grafisk designHögskolan i Borås · Distans · ST 2026BI21,56HP1,40Sökande2 218
- AI och design - begrepp och metoderHögskolan i Borås · Distans · HT 2026BI19,10HP0,20Sökande1 118
- FärgläraHögskolan i Borås · Distans · HT 2026BI19,80HP0,50Sökande941
- Visuell kommunikation - bild, text & formHögskolan i Borås · Distans · VT 2026BI19,22HP0,75Sökande781
- Modedesign och hållbarhetHögskolan i Borås · Distans · HT 2026BI18,75HP0,65Sökande597
- Modeskiss och illustrationHögskolan i Borås · Distans · HT 2026BI18,27HP0,30Sökande558
Vilka söker och kommer in?
| Kön och ålder | Sökande | Andel | Antagna | Andel |
|---|---|---|---|---|
| Kvinnor | 524 | 94 % | 48 | 96 % |
| Män | 36 | 6 % | 2 | 4 % |
| 24 år eller yngre | 117 | 21 % | 13 | 26 % |
| 25–34 år | 142 | 25 % | 11 | 22 % |
| 35 år eller äldre | 301 | 54 % | 26 | 52 % |
Vanliga frågor
Vad krävs för att komma in på Mönsterdesign - grunderna i att skapa rapporterade mönster vid Högskolan i Borås?
HT 2026 krävdes minst 20,75 i BI, 20,83 i BII, 1,00 på högskoleprovet i urval 2.
Hur många sökte Mönsterdesign - grunderna i att skapa rapporterade mönster HT 2026?
560 personer sökte, och 178 hade kursen som förstahandsval. 50 antogs i urval 2.
Källa: UHR:s antagningsstatistik. Siffrorna visas som UHR redovisar dem. Metod